数据光刻缺陷微捷码推出代工厂分析框架Excalibur-Litho

微捷码推出代工厂分析框架Excalibur-Litho

时间:2011年12月01日
微捷码设计自动化有限公司日前宣布推出一款完整的代工厂分析框架——Excalibur-Litho™,支持先进光刻解决方案的开发和监控。Excalibur-Litho是首款集成了设计数据和缺陷、度量和工具历 产能家电供应商MCU供需严重失衡 第三季度恐加剧特斯拉设备市场未来5年成像诊断设备市场增长来自超声设备可编程集成度产品赛普拉斯PSoC®可编程系统出货量突破10亿诺基亚智能手机销量苹果在智能机市场超越诺基亚速率运算放大器电路德州仪器推出三款全新逐次逼近寄存器 (SAR) 模数转换器 (ADC)全球集团协议Premier Farnell集团与Samtec签署全球分销协议光电太阳能电池无锡首条非晶硅光电薄膜生产线在无锡投产半导体集成电路产业“十二五”我国集成电路进入“由大到强”三星公司技术韩国海力士涉嫌窃取三星电子芯片机密

微捷码设计自动化有限公司日前宣布推出一款完整的代工厂分析框架——Excalibur-Litho™,支持先进光刻解决方案的开发和监控。Excalibur-Litho是首款集成了设计数据和缺陷、度量和工具历史等半导体制造车间作业实时数据的系统,实现了无与伦比的数据分析、监控和流程控制水平。Excalibur-Litho通过专利聚合的基于设计的分级、电力交叉映射与代工厂范围数据关联技术,再结合与内嵌式光刻质检解决方案,优化了良率的改进,实现了前所未有的缺陷隔离与根本原因分析。

“ Excalibur-Litho以经过验证的代工厂分析框架为基础,提供了对基于光刻的在线缺陷的全面检查,”微捷码Fab分析业务部总经理兼副总裁Ankush Oberai表示。“通过利用一款经验证且已接入设计和代工厂数据的基础设施,Excalibur-Litho可将数据转化知识,加速了基于光刻的流程的改善速度。”

Excalibur-Litho:从数据到知识
Excalibur-Litho会采集并组织制造流程的各种数据,包括缺陷、度量、电力工具和制造执行系统(MES)数据。晶圆信息会被堆栈在一起,轻松地交叉映射到任一个版图、电路原理图或网表设计表征上,使得分析更为容易。

Excalibur-Litho基于微捷码所开发的革命性开放架构数据库而创建,实现了安全的CAD访问和轻松的代工厂集成。这种开放架构还确保了与大多数检测工具和良率分析数据库的互操作性。

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